二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03843 #9268586 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843是一种工业领先的化学气相沉积（CVD）反应器，用于生产半导体和其他薄膜。目前用于制造各种集成电路（IC）元件、薄膜晶体管（TFT）和微观显微镜元件。这座反应堆设计有一系列加热元件、一个基板室和加工气体，在基板表面形成薄膜。基板支架的设计方式是为了最大限度地提高所得薄膜的均匀性和质量。这个CVD反应堆最重要的两个元素是加热器元素和处理气体。加热元件是由钨、的、钼等金属组成，以达到合适的加工参数。加热器元件表面采用陶瓷制成，有助于保证加热元件的均匀性和稳定性。加工气体用于在基板上形成所需的膜。最常用的气体是硅烷、二硅烷和掺杂硅烷的氮或甲烷。还调整了气体流速、压力、温度、曝光时间等多项参数，以确保能够创造出质量最好的薄膜。为了保证所得薄膜的正确质量，CVD反应堆也需要正确校准。这是通过评估薄膜的均匀性、厚度和组成，并对参数进行任何必要的调整来完成的。例如，如果薄膜不均匀，那么气体的压力、温度和流量可能需要调整。薄膜的厚度和组成也是如此；在所需厚度或组成方面的任何差异都需要更改参数。总体而言，AMAT 0010-03843是一种可靠、用途广泛的CVD反应器，能够生产出参数精确的薄膜。这使用户能够创建完成项目所需的确切影片。凭借其可靠的性能和精确的参数，这种CVD反应堆是任何希望以最高精度制造薄膜的用户的绝佳选择。