二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03843 #9269048 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843是一种气相沉积反应器，设计用于将薄膜沉积到基板上。该反应器能够处理金属氧化物材料，允许用户创建具有所需各种薄膜特性的单层或多层沉积。反应堆的设计具有超低沉积室压力，并具有用于加热基板的射频源。反应堆还配有石英壁，以便高效传热，并保持内部温度相当一致。所包含的微波功率可通过获得专利的"风冷"设计进行调节，这有助于减少能量损失。反应器是垂直方向的中性压力型，允许使用者将材料沉积在基板的两侧。基板固定在低热质量（LTM）晶片支架中，该晶片支架具有水共流气流（WCGF），用于高效传热。这个支架位于反应堆底部，这样多余的材料以后可以很容易地收集。这种设计加上可调节的压力可用性，使其成为制造半导体制造多层薄膜的完美系统。此外，反应堆还在其设计中融入了一些安全特性。这包括许多可能的挥发性有机化合物（VOC）传感器，这些传感器在反应堆运行的任何时刻检测到任何有毒烟雾的存在，如果检测到不安全水平，就可以关闭。反应堆还有一个防火器和接地系统，用于任何潜在的气体火灾。总体而言，AMAT 0010-03843气相沉积反应器的设计为用户在沉积多层薄膜过程中提供了最大的灵活性，同时还提供了确保操作员安全的安全特性。该反应堆具有可调压力以及确保质量和精度的额外设备，这使得反应堆成为那些希望制造可靠和坚固的多层薄膜的人的完美系统。