二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #152193 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416是由AMAT, Inc.开发的等离子体化学气相沉积（CVD）反应器，广泛用于制造半导体、纳米结构和光学器件。AMAT 0010-09416反应堆的主要部件包括内室、等离子体源、排气、真空设备以及气流、压力和温度等过程相关变量的控制系统。APPLIED MATERIALS 0010-09416的内室呈圆柱形，由铝和不锈钢构成。它有一个平坦的底部，用来容纳沉积薄膜的基板。基材可以是硅晶片，也可以是玻璃或石英基材。在沉积过程中,腔室处于高真空状态（通常为10-3 Torr）。过程气体的广义流动通过腔室中心的气箱进入腔室，位于基板正上方。流量由控制系统调节，过程中可能添加或去除特定气体。0010-09416中使用的等离子体是电容耦合的，非热交流等离子体。这是由一个射频电源产生的，它充当位于腔室中心的圆顶形等离子体源的天线。射频电源根据工艺温度和薄膜要求设计为提供特定的功率密度。等离子体用于激发和化学活化反应物以形成所需的材料。排气口从腔室中除去反应副产物，通常连接到真空装置。AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416的控制系统允许精确处理工艺参数,如压力、温度、反应物比和气体流速。这是使用机械和/或数字控制器的组合完成的，这两者都是完全可编程的。此外，控制机可用于分析过程数据并自动进行校正，从而提高过程的均匀性和可重复性。总而言之，AMAT 0010-09416是一种可靠有效的反应堆，广泛用于生产半导体、纳米结构和光学器件等多种应用。它的高级功能,包括精确管理过程参数的能力和分析数据的能力,使其成为各种制造过程的宝贵工具。