二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #293618132 待售

ID: 293618132
RF Match for P5000 Phase IV.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416是专门为薄膜沉积而设计的蚀刻反应器。它是一个高通量、大容量的蚀刻反应堆,用于大规模的半导体晶圆加工。该反应器可用于薄膜沉积、基于等离子体的灰化和蚀刻过程。它配备了高压增强等离子体技术,用于沉积循环时间更快、均匀性提高的薄膜。AMAT 0010-09416反应堆由内蚀刻室和外同心源室组成。内室用来容纳蚀刻剂,而外室则包含等离子体能量的来源。源室装有六个能够调节能级和气体流量的同心火炬。这些火把用于扫描晶片并精确控制沉积速率。设备是自动化的,基于云的机器学习提供了对蚀刻过程的精确控制。反应堆能够产生高度精确的蚀刻模式,这对于先进的半导体工艺是必不可少的。该系统有一个集成的过程监控器,提供对蚀刻过程的详细控制和数据分析。反应堆还设有一个专门的终端单元,具有板/条存储、自动转移和优化的腔室清洗。该单元有助于最大限度地提高晶圆吞吐率,最大限度地减少晶圆损坏。它还能够精确测量蚀刻的体积,确保精确蚀刻并导致更好的结果。过程监视器记录完整的蚀刻过程,从而实现进一步的过程开发和优化。整体单元设计灵活,设计用于实施高级蚀刻工艺。它具有用于识别和纠正异常的高级诊断功能,而其内置诊断机器可用于识别过程中的异常并进行更正。该工具符合EPA标准,并通过EMC认证,可与其他设备兼容。它还可以与自动化系统集成,以实现快速、高效和精确的操作。总体而言,APPLIED MATERIALS 0010-09416是一种高度工程化的蚀刻反应堆,可提供可靠的性能、准确的结果和高通量。该资产是专门为先进薄膜沉积而设计的,不需要复杂的腔室设置,同时提供了对沉积过程的精确控制。该蚀刻反应器是大型晶圆加工的理想解决方桉。
还没有评论