二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #9005021 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416反应堆是一种远程等离子体源和反应堆的组合，专门设计用于半导体工业中的蚀刻、沉积和清洗过程。反应堆装有变频射频发生器，产生适合蚀刻材料如SiO2和Si的高频、低功率波形，然后将发电机产生的等离子体送入反应堆腔室，用于激活前体分子，然后沉积在晶圆上。反应堆室还允许精确控制过程的温度和压力。反应堆室的设计目的是提供具有低污染水平的均匀、可重复的过程。使用等离子体淋浴头将等离子体均匀分布在晶圆表面，同时使用水平晶圆运动级实现均匀蚀刻轮廓和速度。惰性气体通过顶部和底部气体注入引入腔室，以控制反应器腔室内气体的压力和温度。腔室在-20°C至180°C的工作温度范围内工作，压力高达1 Torr。反应堆可以配置为单个晶片或具有最多六个腔室的批处理系统。六室系统配有过程控制软件和全过程三维图。该软件使工程师能够在整个过程中准确控制所需的参数，如压力、流速和等离子体温度。该系统提供了一系列操作压力选项，包括超低压、高真空和大气压，使所应用的过程能够与客户流程的要求相匹配。AMAT 0010-09416反应堆是一种功能强大、可靠的工具，用于广泛的材料处理任务。该反应堆具有精确、可重复的工艺控制、灵活的操作参数、低污染水平，是半导体工业生产优质器件结构的理想选择。