二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #9026398 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416
ID: 9026398
RF Match etcher.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416反应堆是为半导体制造工艺设计的先进设备。该反应堆提供必要的功能和参数,以创建高质量、无缺陷的晶片和器件。反应堆包含许多先进的元件,如感应耦合等离子体(ICP)源和快速热退火(RTA)系统。反应器内包含的ICP源允许进行高级工艺,如蚀刻、多晶硅沉积和掺杂植入。这种特殊的电能来源能够对各种基材进行表面处理。这些表面处理在半导体制造过程中是无价的。ICP源还能够生产用于蚀刻目的的反应性和惰性物质。这允许微调设备制造过程。此外,ICP电源及其电源受到AI支持的冷却系统的良好保护,确保整个反应堆的温度一致。RTA设备是AMAT 0010-09416反应堆的显着特点。该系统提供高吞吐量和低热预算,这意味着随着芯片的收缩和过程复杂性的增加,RTA单元仍然可以处理各种各样的应用程序和功能。RTA机还提供包括休养加热在内的高级功能,使反应堆能够更快地加热晶圆,从而使过程在较短的时间内完成。除了ICP源和RTA系统外,APPLICED MATERIALS 0010-09416反应堆还包含了多个其他特性。其中包括加热和冷却工具、真空密封工艺室、高精度气体输送资产以及其他先进组件。所有这些特性结合起来,使反应堆能够处理外延生长、GaAs沉积等,同时实现低缺陷率。这允许非常精确的结构,适合各种不同的应用。最后,反应堆由直观的用户友好软件界面控制,确保了高效的过程控制和自动化。总体而言,来自AMAT的0010-09416反应堆是用于半导体制造过程的先进设备。该反应堆包含一些先进的组件,如比较方桉源和区域贸易协定系统,这些组件允许为各种不同的应用处理极其精确的结构。反应堆由直观的用户友好软件界面控制,确保高效的过程控制和自动化。它还通过启用AI的冷却系统得到良好的保护,确保整个反应堆的温度一致。
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