二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416W #293644644 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416W是一种用于材料合成和沉积的反应堆，用于研究和工业应用。该反应器是一个高真空、注塑石英体室，设计用于在低压下沉积半导体材料薄膜。它是一个水平的圆柱形腔室，具有两级涡轮分子背衬泵和两个进气口，位于侧面，用于输送前体材料。腔室内的压力在操作时维持在5 x 10-5和2 x 10-5 Torr之间。反应堆装有独特的快门设备，允许将晶片简单地装入腔室，并在低压下进行处理。快门还设有专门用于监测过程的嵌入式红外和紫外线传感线路。加热由两个独立控制的电阻元件提供，提供高达1000 °C的温度，并与一个有5条气线的气体溷合器模块耦合。反应堆后面还有一个电子闸阀。沉积是由一个独特的石英惯性淋浴头推进的，其总压力为1毫托，将材料垂直输送到基板上，以提高均匀性和阶梯覆盖率。石英淋浴头还可以安装在可调支架上，以增加灵活性。在反应堆中可以容纳尺寸不超过200毫米的单个或多个基板。该控制系统旨在实现溅射沉积、化学气相沉积、原子层沉积等薄膜沉积过程的自动化。该单元具有计算机化的操作员接口终端、配方编程以及能够精确控制整个过程的微调阀，包括压力、流量、温度和其他变量。还可以执行数据日志记录,以监视、审阅和记录过程。AMAT 0010-09416W反应堆装有排气机管理（ESM）气体管理工具，包括一个完整的三级干泵。ESM的设计旨在减少工艺相关的交叉污染，提供出色的气体控制，并减少从工艺室排出的气体。应用材料0010-09416W反应堆能够生产适用于广泛应用的薄膜，包括半导体、光伏、光电和MEMS设备。反应器的灵活性和精确度使薄膜特性的重复性和重复性成为微电子应用的关键。宽广的温度范围、可调的淋浴头、综合的控制资产，使用户能够微调和优化自己的流程，从而带来更高的吞吐量和提高的收益。