二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #293592810 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750反应堆是一种用于半导体工业应用薄膜沉积的单晶圆炉。适合用于研发、生产。该反应堆采用化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）技术，将气态前体转化为固体材料。反应堆有一个石英钟形罐，用电阻和射频线圈加热。钟形罐内径12英寸（30厘米），高20厘米。这给了反应堆4.9升的容积。在罐子底部安装了气体分散器，以确保两种气体的均匀流动。两个阶段的泵送使工艺室保持在适当的压力下。过程控制器允许操作员控制温度、气流和射频功率。AMAT 0010-09750反应堆的温度范围从室温覆盖到1,200 °C。此外，工艺控制器还配备了程序，使操作更加简单高效。此外，反应堆还配备了水冷和抽水设备，保证了真空过程的严密。水冷是为了消除过量的局部加热，使系统温度保持在一定范围内，以确保设备性能的可靠性和稳定性。在工艺控制方面，反应堆为光学材料和功能材料的沉积以及广泛的其他工业程序提供了适当的环境。其先进的设计为沉积过程提供了准确、可重复的控制。这在创建均匀、高质量的图层时可能是有益的。APPLIED MATERIALS 0010-09750 Reactor的高端控制机使一系列工艺功能得以准确一致的执行。如果需要,可以修改进程的参数,也可以保存以供以后使用。如前所述，该工具具有有助于防止局部过热和保持安全温度范围的水冷资产。总体而言，0010-09750反应堆是一种可靠的高性能模型，具有良好的工艺控制特性。这种多功能反应器是各种CVD和PVD技术的理想选择。