二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #9026400 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750是一种用于生产半导体器件制造材料的高温多区化学气相沉积（CVD）反应器。反应堆设计有多个腔室和加热元件，允许一定范围的温度和类型的沉积。该室由一个石英管组成，该石英管位于一个重新进入的管炉内。石英管周围环绕着一系列外部电阻加热器和一个外部绝缘屏蔽箱。这种设计允许管的加热和一系列材料的沉积。加热元件为石英管供电，其内容物加热至1000 °C以上的温度。温度范围为500-1100 °C,点之间增加30°C。室内温度的均匀性由四个独立控制的热区控制，可以调整以满足各种沉积过程的要求。该设计还允许对炉子进行水冷，以确保不超过加热元件的热上限。该设计还允许引入氧气和/或氮气以及一系列活化气体或前体气体。它们可以通过质量流控制器以受控的速率注入，向基板输送精确的流量。它也有能力为不同的过程提供广泛的气体溷合物。对气流进行监测，以确保整个腔室保持均匀性。沉积过程使用计算机界面控制。它可以让用户准确、精确地控制气体的温度、压力和流量。反应堆还装有原位椭圆偏光计和光谱椭圆偏光计。这些工具为研究人员在过程开发过程中提供实时反馈。AMAT 0010-09750是半导体器件制造研发的理想工具。它提供了对环境的精确控制，并允许多种类型的沉积，使其成为许多行业的宝贵工具。