二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-27430 #293799036 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-27430是一种多区低压化学气相沉积（LPCVD）反应器。反应堆采用原位四区热壁火炬系统，产生多晶硅、氮化硅、氧化硅材料的薄膜沉积层。该反应堆由于具有多个区域和高温精度，提供了卓越的均匀性和厚度控制。反应堆由一个中央真空室组成，该真空室配有四个对称对齐的加工区。每个区域由陶瓷热交换器、支撑杆和加工室组成。陶瓷换热器含有氢气和氮气MFC的惰性气氛，可精确控制所有区域的温度。支撑杆支撑着由内部加工管和外部石英管组成的加工室。石英管外部加热，也用于监测和控制内管温度。反应堆还包含许多其他组件，如反应喷射器和质量流量控制器。喷射器用于注入LPCVD沉积过程所需的气体。质量流量控制器用于监测和调整各种气体的流量，以及所有区域的温度。反应堆还包含低压计、惰性气体净化组件和气体扩散面板。反应堆利用高压氢气和氮气限制氧化，提供更好的材料质量。它还采用了自动管清洗工艺，减少了对反应堆不断进行人工清洗和维护的需要。此外，温度精度由位于整个反应堆的许多温度传感器提供。该反应器是为沉积具有精确厚度和均匀性的半导体薄膜而设计的。它也是高度可靠的，可以提供高达50%的减少物质浪费。反应堆的设计也是为了尽量减少操作员的干预，确保可重复性和一致的生产质量。反应堆可用于制造逻辑器件、内存器件和其他高度精确和严格的元件，用于广泛的工业。