二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162 #180798 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162是一种高温化学气相沉积CVD反应器，用于沉积用于半导体器件制造的多种薄膜。专为非晶硅、多晶硅等品种膜等材料而设计。固态过程控制特性和先进的过程控制体系结构提供了卓越的计量控制和屈服性能。由于占用空间小,资源需求有限,因此此工具可用于空间有限的实验室。AMAT 0010-36162利用电子回旋共振（ECR）技术，降低杂质、气相生长速率和更高质量的薄膜，以沉积生产半导体所需的薄膜。ECR由可提供4-8 GHz、450 W工艺功率的线性射频设备提供动力。该系统非常适合稳定的沉积控制和均匀性。CVD反应堆单元可高达1250°C运行，非常适合以高质量和均匀性沉积GaN或SiC等薄膜。该机还具有许多保护沉积膜不被破坏的安全特性，包括多区冷却、基于气体的安全工具、背面冷却和内置诊断。APPLIED MATERIALS 0010-36162提供了一套独特的功能，帮助实现更高的生产率、更均匀的薄膜、更可重复的薄膜以及改进的过程控制。腔室尺寸可以安装2英寸晶圆机器人，以增加密度和吞吐量。提供的其他模具选项与CVD腔室兼容,旨在消除手动处理的需要。这些选项还通过提高均匀性来提高产量和吞吐量。0010-36162具有可控的温度和压力,对于过程和均匀性控制至关重要。可调电源使得在CVD反应堆中更容易控制沉积速率和保持一致的温度。用于处理气体的快速变更模块为用户增加了一层独特的灵活性,使用户可以轻松地从一个流程切换到另一个流程。总体而言,AMAT/APPLICED MATERIALS 0010-36162是一个功能强大、坚固、灵活的CVD反应堆,在过程控制和屈服性能方面为用户提供了最好的性能。资产的高级特性和能力使其成为任何实验室环境的理想补充。