二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162 #9075364 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162是一种垂直低压化学气相沉积（LP-CVD）反应器，旨在为半导体工业提供超高纯度、聚晶硅膜的最高品质生长。其独特的特性使其成为最通用的LP-CVD反应堆之一。AMAT 0010-36162反应堆具有垂直石英管热区，可容纳单个和多个晶圆。该反应堆采用先进的平带加热系统，可提供一致的温度曲线，从而在垂直和水平晶片上均匀的薄膜生长。该系统还具有高效薄膜生长的可调流量和简单的腔室辅助控制。此外,还提供变频电源驱动器和数据记录功能,从而实现精确的流程重复性。反应堆还设有带窗口的工艺室，使用户能够实时查看沉积过程。该反应堆配有内置动态光谱仪，用于测量沉积速率和薄膜均匀性。此外，其先进的N2O管理系统旨在降低沉积过程中的颗粒含量，从而减少浪费，提高产量。此外，APPLIED MATERIALS 0010-36162是一种可靠的LP-CVD反应器，寿命长。石英管热区的设计具有更长的寿命和更高的温度能力，可以满足最具挑战性的生长条件的要求。先进的电气和燃气系统设计效率最高，维护很少。综上所述，0010-36162是一种可靠高效的LP-CVD反应器，旨在为半导体行业提供均匀、高质量的多晶硅膜生长。它的特点使其成为最通用、最先进的LP-CVD反应堆之一。