二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162R #9075360 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162R是一种用于先进半导体制造的反应器。它是一个Versalinx蚀刻反应堆，是AMAT特有的干式蒸气蚀刻系统。该系统设计用于前端和后端IC和MEMS应用的铝和硅蚀刻。这种Versalinx的特定型号配备了电气偏置，可以容纳一系列蚀刻化学，使其用途非常广泛。AMAT 0010-36162R可以将20纳米到1微米之间的特征蚀刻到铝和硅中，具有出色的深度控制。该子系统具有可靠的子系统工艺控制能力，具有较高的材料去除率、精密蚀刻效果和优异的表面质量。它能够进行单层或多层蚀刻，使设备功能尺寸小于20纳米。蚀刻过程设置易于配置。Versalinx组件由伺服电机驱动，因此非常精确。压力和温度是可调的,偏置电压和功率也是可调节的.此外,还可以调整最大功率并引导电场,从而帮助匹配来自不同样品的蚀刻速率。由于能够定制各种蚀刻化学装置的设置,因此这是深硅蚀刻工艺以及临界1倍和2倍晶圆蚀刻的理想选择。Versalinx蚀刻反应器非常适合处理具有精确对称模式的芯片。其高蚀刻速率和出色的深度控制也使其成为钨蚀刻以及其他关键沉积后工艺的理想选择。它还能够处理一系列材料，如铝和钛等金属。该系统采用载荷锁对腔室进行均匀疏散，并具有用于样品定位的边珠导轨控制器。这些特性有助于提高整体吞吐量和出色地控制蚀刻工艺。总之，APPLIED MATERIALS 0010-36162R是一种顶级蚀刻反应器，非常适合各种蚀刻应用。它具有出色的材料去除和深度控制能力，并且对于不同的蚀刻化学有高度的定制。它可以将特征蚀刻到20纳米以下的尺寸，从而实现深层硅蚀刻，以及用于沉积后工艺的钨蚀刻。凭借其强大的设计、可靠的子系统工艺控制和卓越的吞吐量，是先进半导体制造的理想选择。