二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36408 #9207766 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36408是一种PECVD反应器，又称等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，是一种用于在基板上沉积薄膜的装置。PECVD反应器由一个发生沉积过程的真空室、一个以电弧放电或射频（射频）发生器的形式启动电离现象的能量来源和一个气体管理设备组成，以提供准确和精确的反应性气体输送到该室。PECVD反应堆的真空室由不锈钢制成，设计为保持高达10-5 Torr的高真空水平。它设有两个视口和一个石英衬里的蚀刻区段，便于操作时观察。能量源提供腔室内两个电极之间的电弧放电，主要用于维持辉光放电。或者，RF发生器可以用来产生等离子体，它是一种非平衡的，部分电离的气体，由原子、分子和具有高温的自由电子（>1000 °C）组成。气体管理系统能够对各种气源的气流和压力进行精确控制，从而获得不同的材料和薄膜参数。为了进行沉积，需要将基材插入沉积室中并放置在电极上。气体管理单元的设置是为了根据应沉积的材料向腔室提供所需的反应性气体流动。能量源被激活以触发沉积过程，沉积过程由电极之间的一系列等离子体放电组成。安装了特殊设计的屏蔽板，将等离子体流向基板。当达到预定的数量或时间时,沉积过程即完成。最终结果是在基板上涂覆了所需材料的薄膜。PECVD反应器在半导体工业中被广泛用于制造微电子元件，因为它提供了极好的均匀性、保形覆盖和光滑的表面。它还具有能够沉积金属、陶瓷、聚合物、电介质等多种材料的优点。此外，PECVD反应器还可用于用于光学应用的涂层、用于磨损和腐蚀保护的涂层以及用于太阳能电池的薄膜。最后，AMAT 0010-36408 PECVD反应器是一种在基板上沉积薄膜的有效装置。它由一个真空室、一个能源和一个气体管理机器组成，以便对气体流动进行可靠和精确的控制。PECVD反应器被用于各种不同的应用行业，使其成为薄膜沉积不可或缺的工具。