二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36734 #293640069 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36734反应堆是一种可升级、高通量的等离子体处理设备。该系统非常适合高精度的蚀刻和沉积应用，包括硅蚀刻和薄膜沉积。AMAT 0010-36734反应堆结合了先进的控制、温度管理和过程控制功能。这样可以实现快速的循环时间、优化的蚀刻和沉积过程,以及在清洁室环境中可重复的过程性能。APPLIED MATERIALS 0010-36734反应堆内容量为27.2升，外径为827mm（32.5英寸）宽x 1061mm（41.8英寸）深x 984mm（38.7）高。其中包括一个三区隔离双向基座，能够支撑各种基板尺寸和形状，包括200毫米（7.9英寸）以下的圆形和矩形基板。最大工艺压力200 mTorr，底压1x10-8 Torr。0010-36734反应堆由机载SCPI-4过程控制模块供电。本模块为流程参数、配方数据管理和实时泵控制提供了广泛的支持。还有一个外部PC,用于提供其他功能,包括即时调整流程参数、流程监控、流程后分析和数据日志记录。AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36734机组还配备了独立的高性能真空泵套件。这个封装包括一个泵送速度为40升/秒的涡轮分子泵，一对粗加工的干式涡旋泵，以及相关的控制器。涡轮分子泵允许快速的循环时间和高水平的蚀刻和沉积控制，而涡旋泵优化工艺压力的精密处理。除工艺室外，AMAT 0010-36734机还具有多种优化工艺控制的特点。这些特点包括具有双通道气体控制的可调流量气体喷射工具，具有大功率（2.45 GHz）原位功率测量的双区射频发电机，以及两区射频发电机。气体注入资产允许在腔内快速且均匀的气体分配，而射频发生器则向目标基板传递精确且可重复的等离子体功率。最后,APPLIED MATERIALS 0010-36734型号设计为可通过附加的工艺模块和组件进行升级。例如，可以增加一个额外的等离子体源、腔室冲洗和电阻膜传感器，以增强工艺的均匀性，改善蚀刻和沉积控制。总体而言，0010-36734反应堆在可重复和受控的条件下提供高通量等离子体处理能力。利用其可调流量气体喷射设备、射频发电机、真空泵系统，该机组可实现优质蚀刻沉积效果。此外,它还提供了额外的流程模块,允许用户自定义其计算机以满足其特定需求。