二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-65541 #293660489 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-65541是为半导体器件制造而设计的多腔过程反应器。用于晶圆的蚀刻、溅射沉积和快速热处理，适用于150 mm和200 mm晶圆。该单元由不锈钢主机、独立控制器、电源板、真空泵组件和水冷机组组成。电源板容纳了射频溅射室和高压直流溅射室的电源，使腔室能够在高功率水平运行。它还为将气体从外部气源引入加工室提供流量控制。控制设备操作用户界面，允许用户控制流程，监控流程参数，设置流程参数，维护流程。AMAT 0010-65541的腔室有多个组分，如两个溅射源、一个气源和一个冷却剂系统。这两个溅射源提供了不同类型的工艺来沉积半导体材料的薄膜，如氧化物和氮化物。溅射过程用于沉积或蚀刻材料。冷却剂单元有助于在加工过程中保持稳定的晶圆温度，而气源为加工室的环境提供某些化学添加剂。该单元还包含一台真空机，在加工前吸出腔室中存在的所有空气，并在加工过程中保持腔室内部的压力。这对于维持所得晶片的纯度和控制工艺气体与底物之间的反应非常重要。真空工具还连接到专用真空泵组件。真空泵组件设计用来抽出加工过程中产生的废气，从而提高腔室大气的纯度。应用材料0010-65541反应堆提供了精密高效晶圆制造的多种特点。其多重溅射源、气源、冷却剂资产提供了广泛的加工能力。其可靠的真空模型维持了工艺气氛，而其独立的控制器则允许用户对设备进行精确的控制和监控。它与150 mm和200 mm晶片的兼容性使得它适合广泛的制造工艺。所有这些特性使该装置成为设备制造的绝佳选择，并成为一种可靠高效的半导体制造工具。