二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-75004 #9389377 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-75004是一种用于薄膜生长过程的高性能、真空热化学气相沉积（CVD）反应器。它设计用于半导体生产和其他先进材料制造过程。该反应堆以尽可能低的成本提供了高通量薄膜生长加工的便利。AMAT 0010-75004反应器包括真空室、热源和气体喷射系统。加热的真空室由不锈钢制成，具有耐氢涂层，在整个内部提供均匀的温度轮廓。该室的温度可以很容易地调整，以适应沉积参数。加热源是一种强大可靠的电阻丝，带有保护网，每次沉积都能轻松改变。气体注入系统允许将各种气体引入腔室，从而对沉积参数进行精确控制。应用材料0010-75004反应堆提供卓越的工艺一致性和可重复性。它具有自动化的过程控制器，用于精确的过程参数控制，包括压力、温度、流量和气体成分。它还有一个可选的远程控制模块，允许从计算机实时监控和调整过程。0010-75004的腔室配备了强大的排气系统，以保持安全的真空压力。它还配备了入口淋浴头，以尽量减少颗粒沉积。为防止任何污染，反应堆配有专用水冷却器和可交换保护板。保护板确保反应器的安全可靠运行。AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-75004反应堆提供了广泛的操作，以适应半导体制造工艺的需要。它提供了前所未有的高通量和可重复的过程,并具有高产率。该反应器可用于各种薄膜生长过程，从溅射到外延，分子束外延等等。AMAT 0010-75004适用于先进的材料制造工艺，如硅片蚀刻、绝缘体上的硅加工等。