二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-77533 #293655752 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-77533是为薄膜沉积而设计的先进反应器。该反应堆采用两区闭室交叉流动设计，具有垂直取向的源和屏蔽。屏蔽层包含在加热气体电池内，该电池由大功率石英灯加热，并利用精确的控制机制确保质量薄膜的沉积一致。由于利用了差动质量流控制器，加热气体电池被设计成保持一个均匀的温度。这确保了可靠、可重复的薄膜沉积，并保持了最佳沉积条件。源和屏蔽层也进行了优化，以减少污染，这有助于确保高质量的薄膜具有最小的可变性。为了达到均匀的薄膜厚度，AMAT 0010-77533反应堆采用了三轴电枢。该电枢具有旋转控制系统，可最大程度地减少重力的影响，并对腔壁上的所有材料保持均匀的沉积速率。电枢由耐高温材料构成，能够上下移动、左右移动、进出工艺室，保证均匀的热能转移到沉积区域。反应堆配备了几个先进的特性，用于监测和控制沉积过程。其中包括一个精确精确的石英温度控制器，能够保持预先设定的温度范围。这有助于确保沉积的一致性和均匀性。此外，反应堆还包括光发射光谱（OES），用于监测氧气、氙气、氮、硫等气体等工艺参数。这确保了对沉积过程的精确控制，并有助于提高吞吐量。APPLIED MATERIALS 0010-77533反应堆还提供一系列自动化特性，以提高生产力和效率。这包括自动电源控制、自动进给速率控制和自动屏蔽。自动电源控制可实现可重复和一致的性能,并缩短沉积过程的持续时间。自动进料速率控制有助于提高向沉积室输送物料的精度和重复性。最后,自动屏蔽有助于降低污染风险,并有助于延长部件寿命。总体而言，0010-77533反应堆设计以安全、高效、可重复的方式提供优质薄膜。其特点是采用垂直取向源和屏蔽的两区闭槽横流设计，石英灯加热气室，以及均匀沉积的三轴电枢。该单元还配备了先进的监控和自动化功能，以提高生产率和提高胶片质量。