二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-81296 #293809265 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-81296是为半导体应用而设计的真空等离子体蚀刻反应器。反应堆由介电屏障射频（RF）等离子体源供电，用于在半导体基板上蚀刻材料层。该单元采用涡轮分子泵实现薄膜蚀刻沉积的低压高温。低压有利于基板中存在的介电层的高完整性。反应堆有一个带有输入窗口的圆柱形腔室，以允许底物通过腔室顶部加载。基板由放置在腔室两端的电极加热。射频源在腔内产生等离子体，根据需要创建蚀刻环境。可调节射频功率，达到所需蚀刻速率，提高蚀刻效率。反应堆装有数字显示屏，可以让用户监控室内的温度、压力和功率水平。该室还有一个气体输送系统，可以精确控制反应物气体。这样可以将最佳材料沉积到基材上。该装置还包括一个气体监测系统，可以检测室内是否存在危险气体。如果检测到有害气体,系统将自动关闭。可将等离子体反应器编程为在需要时自动运行。这样可以提高蚀刻过程的准确性和可重复性。也可以使用编程来定制不同基材和材料组合的蚀刻配方。AMAT 0010-81296反应堆的设计是为了以最高的效率和精确度产生高质量的蚀刻结果。先进的特性使其成为半导体加工应用的理想选择。