二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-81422 #293664188 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-81422是由运动控制专家AMAT设计开发的高温化学气相沉积（CVD）反应器。这种强大的反应堆在各种薄膜和异质结构材料的工艺开发和生产中特别有用，其中包括复合半导体材料如氮化移铵（GaN）、磷化铵（InP）和砷化铝（AlGaAs）。这种多用途的设备有一个两英寸的腔室，使其适合各种晶圆的几何形状，并且可以处理高达450°C的温度。这种坚固可靠的反应堆设备具有多达六个源端口，以及用于从低湍流室泵送反应物的气体注入和歧管系统。这确保了材料沉积可采用多种工艺条件，包括可调节沉积速率、脉冲蒸发器和共蒸发器。此外，每个端口都配有质量流量控制器和致动阀，以便精确控制气流通过腔室。废气也借助计算机进行调节，因为出于安全原因不应超过一定水平。反应堆系统还设有一个先进的控制单元，允许用户快速轻松地设置流程，开始运行，实时监控结果。这台用户友好的机器由一个触摸屏面板组成，显示工具的相关参数，如压力、功能和温度。它还提供了高度可靠的实时反馈,从而实现了一致且可重复的过程。集成的热电偶和风扇控制提供了对工艺温度范围的进一步精确控制。AMAT 0010-81422反应堆允许用户为半导体工业快速开发和生产广泛的金属有机化合物材料。这种体积小巧但功能强大的反应堆具有更强的安全性和先进的控制系统、较高的腔室温度以及广泛的特性,非常适合用于超大规模集成（ULSI）和复合半导体加工。