二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0040-00893 #293658095 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-00893 Reactor是一种双区垂直化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于大体积沉积薄膜，如半导体、特种陶瓷、准金属等。该反应堆利用热和化学前体的组合，将材料直接沉积在两个独立工区内的基板上，如硅片。反应堆具有两个完全独立和孤立的垂直区域，可以单独加热，以优化特定于所用材料或工艺的条件。这允许一个独特的多区沉积过程。每个区域都可以设置为不同的温度，以确保在基板上有准确和均匀的沉积，以及保持基板与不同加工条件之间的温度均匀性。下部区域容纳了一个等温的除虫菊酯石英室，可以专门针对多种工艺进行编程，使其适合许多沉积技术。配备6英寸圆形基板支架，AMAT 0040-00893反应堆最多可容纳150个单独基板，效率最高。基板支架的设计使得任何不需要的材料可以很容易地去除，而不需要排出系统。反应堆还设计了一种气体引入系统，该系统具有很高的灵活性，可以容纳不饱和前体，从而充分利用了两区沉积过程。还包括一个可调的流动范围，以优化高特异性薄膜的沉积速率。反应堆还安装了一个额外的港口，可以对过程参数进行现场监测，从而加强对过程的控制和安全监测。运行应用材料0040-00893反应堆很容易，因为它设计有一个直观的控制面板来监控和调整参数，以便进行高效和安全的处理。总体而言，0040-00893反应堆是研究和工业应用的绝佳选择，因为它能够确保薄膜的均匀沉积，同时也能安全高效地运行。