二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0190-23942 #293662553 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0190-23942是一种垂直、单晶片、大气压、批量、低压化学气相沉积（LPCVD）反应堆设备。非常适合加工硅、硅化物、氮化物、多晶硅、氧化物等外延器件膜。该系统处理速度快、效率高,沉积率高,均匀性好.它配有钟形石英腔室，保证了沉积气流的优越一致性和控制。反应堆还设有一个扩大的圆柱形喷头，带有四站气体输送歧管，有助于将反应堆气体均匀地分配到晶圆的所有区域。AMAT 0190-23942配备了四种气体输入，允许同时输送工艺气体，从而实现快速准确的薄膜沉积。它能够在400°C至1250°C的温度和低至0.5 Torr的压力下沉积。另外，原位加热器偏置装置通过调节电压控制加热器，确保温度精度和沉积一致性。APPLIED MATERIALS 0190-23942利用一个带两个独立腔室的自动化负载锁单元，方便晶圆的运输和处理。一种自动的汞阴极冷壁源为沉积提供反应性气体。此外，该机还配备了质量流量控制器，可保持精确的气体流量和对沉积过程的精确控制。0190-23942以其快速的重量加热和冷却循环时间，是高通量加工的理想选择，在短时间内生产LT（低温）结晶材料。此外,它还配备了安全和环境监控工具,用于监控气流、氧气水平、温度和压力,有助于确保操作的持续安全和可靠性。此资产旨在使用单一晶圆方法在两个级别上处理多达8英寸的晶圆。该模型还具有先进的工艺计量能力，包括维护基板完整性的无损分析。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS 0190-23942是一种可靠高效的LPCVD反应堆设备，能够生产高质量和均匀的外延器件薄膜。特别适合硅、硅化物、氮化物、多晶硅、氧化物等薄膜应用。