二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-38209 #293661400 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0242-38209是一种化学气相沉积（CVD）反应器，用于薄膜沉积在基板上。这类反应堆的工作原理是将挥发性源气体（通常是有机金属或有机硅化物）加热到高温，然后分解形成反应性物质，然后沉积在基质上。AMAT 0242-38209用于原位和异位前体交付。它还能够同时输送多达三种前体，从而可以更精确地控制反应速率。APPLIED MATERIALS 0242-38209是一种水平平行板设备，包含两个垂直对齐、堆叠的石英室。顶部腔室包含两个碳化硅加热器和一个金属网状加热元件，用于加热腔室和基板。基板被放置在一个加热的金属接收器上，该接收器将基板保持在与石英壁固定的工作距离，并有助于在基板上均匀加热。下室分为两个部分，每个部分通过一个辅助板进行隔断。上部包含一个冲洗喷射器，将前体气体引入下室。下部用于控制泵降过程，将气体从喷射器中转移出来，并加热控制反应环境。0242-38209反应堆的加热系统是电加热器和辐射加热器的组合。感应板包含两个相互绝缘并由感应加热单元连接的元件。该加热装置用于在基板上提供均匀高效的加热，确保膜均匀沉积。机器中还存在一系列可调节的喷嘴，用于控制基板上的沉积物。AMAT/APPLICED MATERIALS 0242-38209反应堆还包含上部石英室的一系列窗口，用于监测沉积过程。这些窗户由蓝宝石和石英制成，并具有层状、碳化物涂层的介电涂层，允许光学进入该工艺，同时仍然提供免受污染的保护。将先进的拉曼光谱仪集成到AMAT 0242-38209工具中，以精确测量薄膜的成分。此外,APPLIED MATERIALS 0242-38209包含可用于评估基板表面形态和几何形状的成像资产。这种成像模型允许精确控制沉积过程，进而导致高质量的薄膜沉积。总体而言，0242-38209 CVD反应堆是一种高度先进的薄膜沉积设备。它结合了加热元件、专用喷射器和窗户，可以精确控制沉积过程。其拉曼光谱仪和成像系统也使薄膜的组成和形态得以精确监测。因此，这类反应堆经常用于生产半导体器件、集成电路以及其他各种产品。