二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-73400-1 #9129478 待售

AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT 0242-73400-1是一种双室、低压、化学气相沉积（CVD）反应器。它旨在将许多材料的薄膜高效地沉积在各种半导体基板上，如电介质、氮化物、导电氧化物和其他金属。这座反应堆的主要特点是尺寸紧凑、柔韧性强。它可以适应不同的工艺室配置。反应堆设有两个过程室，第一个是主室。主室是CVD过程的核心，是容纳基板的。它由石英反应器管、级/基板架、排气区和加热截面组成。主室和第二室都装有手动阀门，可以控制气体的引入。石英反应堆管负责沉积过程中气体的输送，能够在25至1000°C的温度范围内运行。加热截面是基材在沉积过程中被加热的地方。它连接到加热线圈，可在0至1000 °C之间调节。基板支架本身装有排气系统，以确保在沉积过程中适当的压力控制。二次腔室用于在气体引入主腔室之前对其进行处理。它由加热块、气体引入区、歧管和过滤器组成。气体引入区允许有控制地引入气体，以及引入硅烷和氯铝酸盐等化学品。AMAT/AKT 0242-73400-1是在各种半导体基板上沉积薄膜的理想反应器。它体积小，而且可以适应不同的腔室配置，因此具有很大的灵活性。此外，其处理各种温度和气体的能力使其能够将各种材料沉积在基板上，从而能够进行很大程度的工艺控制。