二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0290-20094 #9203683 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0290-20094是一种工业级化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于使用各种工艺气体沉积薄膜。反应堆宽96英寸，深42英寸，高67英寸，能够在直径700毫米的载荷下产生高达7晶圆的批次。它具有两个独立的直列式加热器，具有独立的温度控制，以实现最大的热均匀性，确保基板以一致的均匀性充分加工。其内部由反应堆容器和气体歧管两部分组成。反应堆容器的设计提供了一个几乎理想的气体流动环境，其圆柱体内部衬有热石墨（PG），这是一种高反射性的导电材料，有助于浓缩源气体并产生均匀的薄膜形成。气体歧管是位于反应堆顶部的一个大腔室，其中源气体在真空下通过一个入口加上几条传递线注入反应堆。反应堆采用高温炉技术，使得能够利用更具侵略性的工艺条件，快速生产出形态良好的厚而均匀的薄膜。射频和直流电源由高质量材料制成,可达到2000W的功率水平,提供均匀的低温剖面和均匀的整个基板加热,从而提高工艺稳定性和产量。为了确保高吞吐量和最小停机时间，该系统包括两个用于晶片装卸的石英锁室和一个排气管理系统，以消除环境中的挥发性部件。此外，AMAT 0290-20094与各种气流控制器兼容，以监测过程。应用材料0290-20094 CVD反应器是在晶圆和其他基材上沉积各种材料的可靠而有力的工具。它提供高品质的均匀胶片,并具有模块化设计,允许定制过程和出色的可扩展性。因此，它已成为半导体工业中高容量、生产级CVD沉积的主要选择。