二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9156161 待售
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ID: 9156161
PECVD Chamber
Front
Front Monitor: Ok
Back Monitor: Ok
Load port: Sensors, Cass plate
Signal tower: R,Y,G,W
Robot: ATM robot & Vacuum chuck
Slit door: Open
Laminar flow: Load port laminar flow
Wafer transfer module
Robot: No
Baratron gauge: No
Buffer door lift : Ok
Buffer Isolation valve: Ok
Buffer throttle valve: Ok
Cool chamber: Ok
Process module
CH# A RF Match: HMN302D
CH# B RF Match: Ok
CH# C RF Match: Ok
CH# D RF Match: No
CH# A Gate valve: No
CH# B Gate valve : AV-4.0-MOD
CH# C Gate valve: Ok
CH# D Gate valve: Ok
CH# A Throttle valve: 153F-4-100-2
CH# B Throttle valve: No
CH# C Throttle valve: Ok
CH# D Throttle valve: Ok
CH# A Heater lift: No
CH# B Heater lift: No
CH# C Heater lift: Ok
CH# D Heater lift: No
Controller Board: DI/O,AI/O : Ok
DC power supply: Ok
CH# A Baratron gauge: MKS
CH# B Baratron gauge :Ok
CH# C Baratron gauge : Ok
CH# D Baratron gauge : Ok
Regulator box
Span sensor: Ok
Manual v/v & Regulator: Ok
Gas panel
NF3: 2SLM
Ar: 300SCCM
NH3: 2500SCCM
N2: 5SLM
SiH4: 500SCCM
1%PH3/H2: 1SLM
H2: 3SLM
B2H6
System control rack
Interface board: DI / O, Seriplex, VME, CPU
DC power supply: Ok
Pump control module: Ok
Servo DC power supply: Ok
Main frame
Power rack
Generator
Chamber A RFPP RF20S: 2666
Chamber B RFPP RF20S: NPG2K10S005
Chamber C RFPP RF20S: No
Chamber D RFPP RF20S: No
Pump
Chamber A QMB500 + QDP80
Chamber B QMB500 + QDP80
Chamber C QMB500 + QDP80
Chamber D QMB500 + QDP80
TM pump QDP40
Load/Lock chamber QDP40
Scrubber:
Main scrubber CDO859
Back-up scrubber CDO858
Heatexchanger SPEED-7000
Missing and ETC parts :
ETC: Part step ( scaffolding ).
AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT 1600反应堆是为半导体应用而设计的大型化学气相沉积(CVD)系统。它是生产薄膜材料和结构的最先进的工业反应堆。系统先进的沉积技术提供了卓越的单晶片均匀性、优异的工艺控制、可靠的操作和低成本的拥有。反应堆装有由热电子枪放大器连接的大功率气冷电子枪,允许精确控制基板温度、腔室压力、气流和沉积速率。蚀刻项圈有助于减少颗粒污染,而基于金属滚筒的设计进一步增强了均匀性和铜基薄膜。该反应堆可容纳直径最大152mm的多种基材,包括硅片、砷化氙、石英、玻璃和氧化铝。它可以加工多种材料,从铝、铜、镍等半导体金属到氮化硅、氧化铝等电介质。该系统配备了多项高级功能,如自动调源、真空电平控制、等离子体诊断、自动气体输送和测试脚本,以帮助简化流程。彩色触摸屏显示屏和直观的图形用户界面(GUI)允许用户快速准确地监控运行的所有参数。此外,AKT 1600反应堆还有各种备选方桉,包括多个负载锁定室、平行处理室以及用于样品预处理和后处理的大气模块。总体而言,AMAT AKT1600 CVD系统能够生产高质量、低成本、均匀性极好的薄膜。其先进的功能和易于使用的图形用户界面使其成为需要卓越沉积质量和可靠性的工艺的理想选择。
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