二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9195141 待售
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ID: 9195141
PECVD System
(4) Chambers
Gas box
Gas distribution cabinet
(4) Acid cabinets
Flammable cabinet
(2) Stainless steel tables
RASCO WTC-2000RS-AKT Water chiller
AMAT RFPP RF20 Power source / Supplies rack
Capable of transferring: 300x300 mm Square glass substrates
With single loader module to load lock chamber
13-Slots load lock chamber cassette
IMI Using chamber B
With RF power
Wafer handler
Spare parts
Manuals
Power supply: 208 V, 60 Hz, 300 Amps, 3 Phase
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600是一种等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器设备，用于沉积薄膜，如电介质、导电材料和光学应用材料。该系统以高达200 W的射频功率运行，能够沉积具有优异特性的薄膜。PECVD工艺用于沉积多晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅的薄膜。该装置利用射频驱动的源气体模块，将等离子体和热过程结合在一起，在较大的基板区域上沉积均匀、高度保形的薄膜。基材尺寸可达直径300毫米。此外，反应性气体通量是可调的，从而能够精确控制薄膜的生长。AKT 1600包含一个用于生成沉积过程中使用的等离子体的RF天线。机器由两台额定功率为200 W的大功率射频发电机供电。外部射频源通过射频线圈连接到内室，作为射频发电机和等离子室之间的通信链路。该工具的等离子体腔室被设计用来容纳多种基质，用于多区沉积。腔室被一个石英钟形罐包围，用来为等离子体沉积过程提供惰性环境。钟形罐具有可调气体入口资产，用于通过控制源气体的流速来控制蚀刻/沉积过程。对于温度控制，该车型配备了高温双区加热元件。低温区用于启动和稳定沉积过程，而高温区则用于优化过程。AMAT AKT1600还有一个可调节的排气设备，用于控制腔室内部的压力，并协助清除过程中的副产品。总体而言,APPLIED MATERIALS AKT1600是一个可靠的PECVD系统,为用户提供了一种可靠、通用且高效的方式来存放优质薄膜。凭借其可调的气体进排气单元、大功率射频发电机、两区加热元件，用户可以轻松控制沉积过程，从而产生具有优良特性的薄膜，广泛应用。
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