二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9364083 待售

ID: 9364083
PECVD System Substrate size: 330 mm x 430 mm Maximum substrate thickness: 4.0 mm Mainframe Gas panel Power transformer Heater exchanger Remote service module Vacuum pump.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT 1600反应堆是一种等离子体蚀刻、沉积和退火设备,用于材料加工应用。凭借其先进的纳米技术能力,该反应堆用于涉及薄膜沉积和蚀刻的研发项目。AKT 1600利用感应耦合等离子体(ICP)源,产生高温、高能离子和其他种类,可用于蚀刻多种材料。这个ICP电源由高频RF电源供电,可以调整以调整传递给等离子体的功率。AMAT AKT1600能够在75至1200摄氏度的高温下工作。APPLICED MATERIALS 1600是一个双室,水平配置的反应器,带有一个负载锁定室。锁载室用于在两个腔室之间运输晶片载体,而不会使腔室或设备暴露于外部污染。这样可以防止任何空气或其他污染物进入加工室。AMAT 1600能够沉积金属、聚合物、电介质等多种薄膜。这是通过将气体带入机组的气体注入系统,结合ICP机的源功率,可以改变沉积物质的密度来实现的。产生定向视线(DLOS)的先进加热元件允许将沉积的薄膜或其他材料退火在腔室中,并且可以设置五分钟到几小时之间的时间。1600能够实时控制工艺速率和组成,这使得它们能够精确。这种精确度,加上先进的加热元件,可以保证良好的过程重复性和可靠性。该工具还配备了种类繁多的诊断能力,如相机成像和红外成像。总体而言,AMAT/AKT AKT1600反应堆是用于材料加工应用的先进工具。它具有ICP资产和DLOS加热能力,能够产生精确的蚀刻、沉积和退火结果。这些特性使其能够产生具有可重复结果的坚固结构,确保其最终产品的质量和可靠性。
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