二手 AMAT / APPLIED MATERIALS (3) Chambers for P5000 #293636202 待售

AMAT （3） P5000反应堆室是专门用于芯片级制造的高性能、三室、高级工艺工具。此设备以最高的质量提供更高的吞吐量和更快的周期时间,以满足最苛刻的客户要求。这种P5000反应堆提供独特的特性和能力，使它区别于竞争系统。其中最令人印象深刻的是用于快速和可重复过程的高级多级系统。这三个腔室可配置为蚀刻和沉积，另外还有溅射沉积、额外的外部处理能力和先进的冷却系统等工艺。通过将硬件和软件创新相结合,该设备可实现最大的吞吐量和吞吐量管理,从而实现过程优化。P5000的工作流程旨在产生可重复的高质量结果,并具有一致可预测的周期时间。该工艺将腔室模块和序列真空循环、温度控制、遥控台处理和传感与工艺编程相结合。它还提供自动选择性重复，允许用户运行多个参数不同的相同配方。该P5000拥有一流的室内温度、压力控制和均匀性。腔室温度控制是通过先进的PID 18区温度控制机实现的，而压力控制提供了在广泛的压力范围内稳定和可重复的压力剖面。此外,该工具还包括蚀刻室和沉积室的独特热映射功能,可在整个晶片中更好地控制关键晶片级参数并实现重复。此热映射功能还提供了更快的周期时间和更大的过程余量。该P5000还包括精密晶圆处理和放置资产、带有随机访问功能的自动加载/卸载、实时目标层监控以及高级流程监控等附加功能。此外,该模型还具有先进的诊断和故障验证功能,可提高流程产量和可靠性,并具有高级数据采集和检索功能,可进一步优化流程。总体而言，P5000反应堆应用材料（3）室是一种高性能、三室的工具，它以最高的质量提供更高的吞吐量和更快的循环时间，同时提供一流的室内温度和一致的工艺余量。该设备具有独特的热映射特性，有助于最大限度地提高工艺产量和可靠性。该反应堆还具有支持多种配置的灵活性，为用户提供了对其过程的终极控制和可重复性。