二手 AMAT / APPLIED MATERIALS (3) CVD Chambers for P5000 #293660269 待售

AMAT （3）用于P5000的CVD腔室可实现化学气相沉积（CVD）,使用户能够制造各种用途的薄膜。该CVD反应器具有三个具有个性化沉积带的腔室，适合用于金属、氧化物、氮化物和其他材料的沉积。该P5000成功地将蚀刻和CVD过程的几种技术结合到一个系统中,旨在提高吞吐量和生产率。应用材料P5000的CVD室有三个沉积室：一个低温沉积室、一个高温沉积室和一个等离子体增强沉积室。低温室配有加热晶圆传输系统，使得从液体和固体来源沉积的材料的温度范围为20-200 °C。高温室允许在高达1000 °C的温度下沉积，从而能够沉积各种材料，如金属、氮化物、氧化物、合金和聚合物。第三室是等离子体增强沉积室，它利用等离子体诱导的气相沉积过程来处理无法从液体或固体来源成功沉积的材料。这三个腔室各配有自己的个性化射频电源，从而便于优化工艺。晶圆迭加和对齐配方的高级软件和数据库有助于确保用户最高级别的过程控制。所有方便用户的测量和分析功能都将过程时间减到最小,并使用户能够准确控制基板温度和沉积速率。AMAT/APPLIED MATERIALS （3） CVD Chambers for P5000支持各种材料和工艺类型,允许各种产品可能性。这座CVD反应堆还为用户提供了多区连续工艺，有助于创建更复杂的薄膜结构和其他结构，如纳米尺度特征。该室还包括标准的安全特性，确保操作员在操作过程中得到充分的保障。AMAT （3） CVD Chambers for P5000提供先进的CVD技术包,用户可以在其中将各种材料存放在不同的基板上。这种先进的CVD反应堆为用户提供了高生产力、灵活性和易用性，同时保持了成本效益。所有这些功能结合在一起，使P5000成为任何需要可靠和高效的CVD反应堆的企业的绝佳选择。