二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380509 待售

ID: 9380509
PECVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500反应堆是一种多过程、多用途、动态、灵活、高温的化学气相沉积(CVD)系统,设计用于半导体工业。它允许对工艺条件进行精确控制,并可用于存放用于智能手机应用、新显示技术、太阳能电池制造和薄膜检测等一系列应用的薄膜。AKT 3500设计有三区多级CVD腔室。腔室配有单独的多个加热部件,允许对每个区域进行独立的热控制。这允许对不同的薄膜或薄膜组合使用不同的工艺温度。它还允许电介质或其他半导体膜的高温退火,增加膜的均匀性。AMAT AKT-3500利用先进的诊断手段实时监测工艺参数,如薄膜厚度、分布、晶体结构和清洁度。这样可以确保生产产量高,且拒绝次数最少。反应堆还配备了多气体进气系统,允许柔性进气组成以创建过程效率高的均匀薄膜。反应堆上的软件为其用户提供了广泛的实时工艺配方。这可以根据工艺应用和晶圆要求进行定制和调整。APPLIED MATERIALS AKT-3500还具有全方位的安全功能。它采用自动、非接触晶圆传输系统设计,以减少颗粒污染。它还配备了先进的CVD后端,并配有互锁和安全罩。这使得气态溷合物在CVD过程中的浓度安全可靠。最后,AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT AKT-3500反应堆设计为对工艺条件提供可靠、灵活、精确的控制。它是一种功能强大且用途广泛的设备,可用于将胶片存放到多种应用中,同时确保高产品质量和产量。
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