二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380510 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500是一种用于薄膜沉积的高性能高密度等离子体增强化学气相沉积（HD PECVD）反应器。它设计用于将薄膜沉积到尺寸不超过6英寸的晶片上，并且是完全自动化的，允许沉积具有高重复性和重复性的高质量薄膜。PECVD工艺能够通过活化和溷合气体来沉积薄膜。PECVD过程在反应堆的腔内进行，也称为等离子体腔、反应腔或沉积腔。沉积中使用的材料通常是前体，作为气体引入等离子体腔。该室包含一个电极系统，产生一个产生高密度等离子体的电场，该等离子体将前体分解为活性物质，使其沉积到放置在该室底部的晶片基板上。PECVD工艺可以在25至500°C的温度下以及在惰性气体和反应性气体的各种压力下进行。等离子体的密度以Watt/cm3为单位进行测量，并受到电路功率容量和材料电感的限制。AKT 3500采用八个电极系统设计，在晶圆基板上实现了极好的均匀性和步进覆盖。电极系统和可变气体压力的结合，可以精确控制沉积膜的质量和厚度。基于硅的VMOS电容器在PECVD反应器的建造中采用，在50 kHz的性能下提供六伏。先进的冷却系统和经过优化设计的电极的结合确保了高等离子体密度和稳定性，而计算流体动力学（CFD）使反应堆的性能得以优化。此外,PECVD反应器还与自适应控制厚度均匀性（ACTURO）技术兼容,该技术采用内置算法控制沉积过程。这一过程有助于优化整个晶片的沉积均匀性，并补偿每一个单独的沉积需求，如流速、压力和等离子体功率。AMAT AKT-3500是一种尖端的PECVD工具，可以重新编程以调整温度、压力、气流和等离子体功率，以适应各种应用。其在各种基板上产生均匀、可重复性能的能力，使其在微电子、医疗设备、产品等多个行业广泛用于薄膜沉积。