二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380521 待售

ID: 9380521
PECVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500是AKT设计制造的单晶圆、低压化学气相沉积(LPCVD)反应器。该反应器用于将氧化硅、氮化物等材料的多层薄膜沉积在硅片表面。该设备由两个主要部分组成:一个气管/阀门组件和一个加工室。气体管线/阀门组件由关键传感器、阀门和控制装置组成,以帮助管理进入系统的过程气体流量。该工艺室由不锈钢制成,包括两个独立功率控制的电子束源,1个射频电源,以及整个腔室的温度控制。AKT 3500的工艺室温度范围为120°C-900°C,能够在大气或降低的压力下运行。其晶圆尺寸范围最大为直径8英寸,最大工艺负荷为7磅。该装置进一步设计用于处理特定的沉积开销,最大运行速度为80 W/in2。它具有以太网、RS-232和远程访问RS-485等各种数据通信协议。AMAT AKT-3500具有高精度的等离子体清洗功能,有助于分离和输送挥发性颗粒,以减少过程引起的污染。它旨在遵循JEDEC规则,为DRAM、闪存和Logic等高性能应用生成可靠且可重复的沉积过程。该机还配备了广泛的安全功能套件,包括联锁、地面故障中断和警报。总体而言,APPLIED MATERIALS 3500是一种先进的反应堆,旨在产生精确和一致的结果。它经过了严格的测试,并被证明在生产环境中表现最佳。它的特点和现代设计使其成为需要高质量和可靠结果的应用程序的理想选择。
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