二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380523 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500反应器是一种低压化学气相沉积（CVD）设备，设计用于处理图桉化和非图桉化半导体晶片。该系统能够在晶片表面上沉积多种掺杂剂和电介质，以增强电气和物理性能。该装置设有一个热墙CVD室，该室配有一个石英可插入组件（QIC），允许过程气体浓度的快速、可控变化。这允许多用途层的沉积，以适应各种不同的应用。AKT 3500反应堆还具有低湍流环境，提供高度均匀和可重复的沉积压力。这是处理高频和射频器件以及低温电介质的理想选择。该机配备温度范围为50-800C，压力范围为0.1-10托，并配有多个工艺气体阀和质量流量控制器的气体处理工具。该资产能够在400mm晶圆和8英寸晶圆配置下运行，并且可以配备先进的温度控制包。AMAT AKT-3500反应器是各种半导体制造应用中易于使用和可靠的工艺模型。该设备还具有可调焦点和开放式腔室设计，有助于减少交叉污染和防止产生颗粒。该系统还配备了快速可靠的Open-Loop Stepper/Scanner，允许高吞吐量处理。该单元提供简单的晶圆控制选项,允许同时运行多个晶圆配方。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500反应器是将掺杂剂、电介质和其他材料沉积在半导体晶片上的理想工具。其先进的特点和稳健的设计使其成为半导体加工的理想选择。该机可靠、可重复、易用，适合各种不同的半导体应用。