二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 7710 #9095868 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 7710 Reactor是一种下一代TFE（三场蚀刻）系统，设计用于蚀刻具有高精度和精湛均匀性的先进半导体器件结构。这种最先进的系统能够通过场氧化物层、抗蚀层、薄膜堆栈和其他装置结构进行蚀刻。AMAT 7710利用先进的TFE工艺在各种设备结构中实现近乎完美的均匀性。应用材料7710功能的核心是其先进的TFE过程。与传统的干蚀刻工艺相比，TFE的设计提供了更高的尺寸精度和更高的均匀性。7710采用创新的三场蚀刻室设计，利用两种源气体，第三个"偏置"场创造独特的蚀刻环境。对源气体和偏置气体进行主动控制，以产生特定装置结构的最佳蚀刻条件。这种先进的技术有助于确保均匀的蚀刻深度以及紧密的特征尺寸。AMAT/APPLIED MATERIALS 7710具有新颖的预调整阶段。硅晶片暴露于专门的低损害干蚀刻工艺中，以确保在蚀刻前准备好介电层和其他细腻的元件。此预调整步骤允许在蚀刻过程开始之前对设备结构进行最佳准备的受控蚀刻过程。除了其先进的预调理步骤外，AMAT 7710还使用了一系列气体充气组件和错综复杂的真空系统来管理蚀刻环境。每种类型的设备结构都需要不同的蚀刻条件,例如APPLIED MATERIALS 7710能够自动调整蚀刻工艺参数以提供最佳的蚀刻性能。7710是任何寻求优化先进半导体器件结构蚀刻工艺的客户的理想选择。AMAT/APPLIED MATERIALS 7710采用先进的TFE工艺,提供精湛的均匀性和紧密的特征尺寸,可提高性能和产量。AMAT 7710除了其预调整步骤、错综复杂的气体总成、管理真空系统外，是蚀刻装置结构的最先进选择。