二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 7710 #9095871 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 7710是一种化学气相沉积（CVD）设备，用于半导体工业中，用于基板上材料的生长。AMAT 7710是一个单晶圆热CVD系统，旨在满足最具挑战性的沉积需求，对工艺参数进行精确的控制和可重复性。所得胶片的质量、均匀性和可重复性在业界是无与伦比的。该单元具有一个石英反应堆腔室，可以容纳一个单一的4"或8"晶片，而Czochralski方法最多可以容纳两个8"晶片。APPLICED MATERIALS 7710 CVD机提供了一个集成的流体流量控制，有两条独立的气线，一条用于带有精确质量流量控制器的载气，另一条用于具有独立流量控制器的掺杂前体。该工具配备了若干工艺参数，包括温度、压力、反应物流量、辐射计和用于清洗的HMDS，以及两种预先设定的用户定义配方。对于低温沉积需要,工艺室温度可设置为低至50°C,高至950°C。7710石英室提供快速热回收和广泛的工艺配方。集成的晶圆温度控制允许严格控制晶圆表面温度,并确保整个晶圆上的薄膜均匀。资产还可以被编程为暂停和恢复沉积，以减少薄膜生长过程中的非均匀性或饱和度。此外，基板与原料的接近也不需要额外的等离子体系统。CVD模型还具有提供实时流程监控的流程控制软件。AMAT/APPLIED MATERIALS 7710是为了可靠性而设计的，维护容易与元件的重复性为快易更换。全自动门锁、警报和紧急关闭开关等安全功能确保设备安全可靠。该系统还具有极高的效率，气体消耗率低，石英室捕获气体后效应，以确保高质量的沉积。AMAT 7710非常适合研究和开发,其可靠性、质量和可重复性使其成为制造一些最精确和最先进的半导体器件的理想选择。