二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 7710A #9095861 待售

ID: 9095861
优质的: 1989
Epitaxial (EPI) reactor 1989 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS 7710A是一种先进的、高性能的化学气相沉积(CVD)反应器,用于薄膜、电介质、氧化物和氮化物等原子层材料的沉积。该工具广泛应用于半导体工业中,用于微量和纳米级材料的生长。AMAT 7710A反应器是一种两室水平CVD系统,设计用于在腔室之间自动固定和晶圆转移,而不会破坏真空。它拥有坚固的不锈钢内室,配有热解碳衬里、管状电极和陶瓷加热管,提供高纯度、超低温、高温的CVD工艺。Wafer Plate-in-Range允许使用30毫米至125毫米的三个晶圆直径,以及高达1.2毫米的厚加工晶圆和高达0.300毫米的薄膜基板。APPLICED MATERIALS 7710A具有强大的质量流控制器,可精确控制10ccm至1800cm范围内的过程气体和双晶石英窗口,以便在沉积过程中进行完美的检测器观察和监测。加热的腔室周长在晶片上提供均匀的温度控制,从而产生低排泄率、精密的过程。该反应器还采用了基于温度的气体开关,由于薄膜应用的晶圆热管理较好,提供了良好的应力控制。7710A是一个全自动CVD系统与可编程配方软件.该反应堆的温度范围低至200℃,最高可达900℃,能够在高达10Torr的高压下运行。提供优异的热均匀性、沉积速率和外延结晶度。特定于模型的特性增加了处理的稳定性和重复性,实现了较低的拥有成本,同时保持了严格的过程控制。内部液冷冷却屏蔽保护用户在沉积过程中免受辐射和噪声的影响。AMAT/APPLIED MATERIALS 7710A反应堆适用于使用CVD技术在多种基材上可靠生长优质材料。该工具将提供精确的过程控制、出色的排便、增加的吞吐量和高产。利用CVD方法,这种反应堆可用于制造各种应用的材料,如制造光电、磁性、显示和记忆装置。
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