二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 7800 #9181899 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS 7800是一种前沿、高性能的工具,用于制造超高速和超宽集成电路。它是一种化学气相沉积（CVD）PECVD反应器，设计用于沉积在300°C至550°C温度下具有极好均匀性的薄膜。反应堆设有两个差分泵送级，在整个晶片上提供优越的沉积均匀性。它的自动化控制系统直观易用，允许快速的过程斜坡上升和较低的过程优化时间。AMAT 7800能够沉积具有非凡均匀性的薄膜，包括超薄门氧化物、高温屏障材料、高介电常量电介质、金属触点和金属互连。Ultrathin gate氧化物在晶体管中尤为重要,High-k电介质对于进一步缩小到更精细的节点至关重要,而METAL接触和互连是实现互连金属化所必需的。APPLIED MATERIALS 7800能够沉积多种材料，包括但不限于二氧化硅、氧化​​放子、氧化移子、氮化硼、氮化钛、氮化ha和其他介电材料。7800是超薄超宽器件和电路大批量生产的理想选择。它具有热稳定性，能够在大型晶片上产生高质量、一致的沉积物。利用其高性能的PECVD腔室，可以对沉积过程进行精确的温度控制，允许精确的薄膜厚度和均匀的沉积。直观易用的界面使不同晶圆尺寸的不同材料的沉积过程易于调整。自动化控制系统允许快速的过程提升和较低的过程优化时间。总体而言，AMAT/APPLICED MATERIALS 7800是一种先进的CVD PECVD反应堆，非常适合于大批量生产超薄型设备和电路。它具有良好的沉积均匀性和对沉积过程的精确温度控制，使得微加工的质量和输出水平最高。