二手 AMAT / APPLIED MATERIALS (8) Chambers for Endura II #293669863 待售

AMAT （APPLICED MATERIALS） Endura II是一种高度先进的等离子体反应器，旨在容纳广泛的等离子体处理、沉积过程、表面修改和其他专门应用。反应堆由8个单独的腔室组成，可单独配置以满足不同行业的具体需求。每个腔室的设计都是为了保持一定的温度和压力，以便对加工过的材料产生所需的效果。AMAT/APPLICED MATERIALS Endura II中的第一个腔室是环形感应线圈温度腔。该腔室的设计提供精确的温度控制，以确保最佳的生产力。重金属感应器限制辐射传热，并被介电屏蔽层包围，以防止热量泄漏。该腔室用于退火、蚀刻、预沉积等材料的预处理。第二室是高压直接等离子体发生器。该反应器的设计目的是产生在表面改性过程中具有高反应性和有用的正离子。室内的离子密度很高，产生均匀的放电。该腔室用于处理离子铣削、硬掩模蚀刻和溅射沉积等基材。第三室是用于等离子体实验的超低压室。该室的设计目的是尽量减少反应物的损失，并确保一个均质的环境。腔室可以操作到0.1 Torr的压力。主要用于薄膜沉积过程和单体或颗粒的发展。第四室是一个远程溅射沉积室。该腔室设计用于以高精度和精确度将薄膜沉积到基板上。该腔室通常用于导电、磁性、半导体和其他特殊层的沉积。第五室是一个模块化的包簇，用于薄基质层的高效沉积。数据包可以单独排列,也可以组合在一起,创建组成不同的复杂结构和层。此外，该室还配备了自动现场诊断和离子束蚀刻器。第六室为表面分析室。该腔室设计用于表面修改，如蚀刻、退火和薄膜沉积。此外，该室还设有光学显微镜诊断系统，可用于分析表面形态。第七室是先进的激光烧蚀模块。该模块用于保形涂层、晶片级图桉和结构修改。该腔室装有高功率脉冲激光器，用于创建复杂的模式和其他功能结构。第八室也是最后一室是后治疗室。该腔室设计用于控制薄膜在基板上的沉积速率，并配备必要的硬件和软件来控制环境和后处理薄膜。它是Endura II的重要组成部分，在发送给客户之前作为治疗的最后阶段。总体而言，AMAT （APPLICED MATERIERS） Endura II的8个单独腔室设计用于各种等离子体处理、沉积过程、表面修改和专门应用。腔室提供精确的温度控制、离子束蚀刻、光学显微镜分析、激光烧蚀模块和后处理处理。它是一个先进的等离子体反应堆，帮助制造商以高效和经济高效的方式生产高质量的产品。