二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 9240-03211 #293648591 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 9240-03211反应堆的设计目的是为各种半导体制造过程提供最佳环境，最显着的是化学气相沉积（CVD）。它有一个温度控制的真空室，有不锈钢周边和底板，抗弧形石英窗，以及陶瓷基板支架。腔室内部容积约为25升，真空范围为1.0 x 10^-6 Torr。该室配有一个快速抽出的涡轮分子真空泵和一个Tecator TM2500质量流量控制器来控制气体的流动。此外,该腔室还具有两个具有自动打开/关闭功能的Load-Lock和一个用于前置加载的晶圆篮。AMAT 9240-03211能够将温度低至-12 °C，最高可达800 °C，反应堆还设有内部迷你淋浴、RF等离子体发生器，以及用于精确温度控制的双环冷却系统。应用材料9240-03211是生产高质量半导体器件结构的绝佳工具。它能够生产金属硅化物、高介电常数门电介质和具有精确掺杂模式的真空沉积金属层。其精确的温度控制和氮化物沉积特性提供了对正在生产的设备的结构和组成的精确控制。自动温度控制系统旨在优化最大厚度均匀性和特征分辨率。此外,它的快速循环频率和最小热应力提供了更高的精度.9240-03211用户友好,具有提供直观控制系统的触摸屏界面。它带有可定制的配方、多语言接口和远程操作功能。AMAT/APPLIED MATERIALS 9240-03211还具有安全功能,包括过压互锁和干气压开关。此外，反应堆有一个电离真空计，为用户提供准确的腔室读数，以及用于错误检测和预防性维护的诊断工具。总体而言，AMAT 9240-03211反应堆是生产高质量、精密半导体器件结构的绝佳工具。其先进的温度控制和自动化过程使其成为各种CVD过程的理想选择。它提供了用户友好的界面、可定制的配方以及各种安全功能,以提高半导体制造的精度和控制能力。