二手 AMAT / APPLIED MATERIALS AE Minos chamber for Centura DPS II #293650481 待售

AMAT AE Minos DPS II Chamber是一种高性能等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，设计用于制造半导体器件。AE Minos DPS II能够对半导体器件中使用的薄膜材料进行可靠、高度可重复的处理。腔室提供先进的均匀性控制，快速沉积速率，高吞吐量。AE Minos DPS II具有平坦的方形加工室，可实现均匀性，提高晶片到晶片的可重复性。该腔室配有先进的三点均匀性控制，允许操作员监控和调整参数，以提高薄膜沉积的均匀性。腔室还配备了高性能等离子体系统，提供增强稳定的均匀性。该系统还包括一个3区偏置控制，以帮助减少反应性离子侵蚀。AE Minos DPS II结合了灵活的沉积架构，允许操作员向上缩放或向下缩放腔室的吞吐量和沉积速率。该室具有先进的工艺灵活性和沉积各种不同沉积工艺的薄膜材料的能力。另外，该腔室可以处理多种底物，包括硅、砷化氙、磷化铵以及其他化合物和氧化物。AE Minos DPS II配备了多个先进的过程控制和监控系统，包括边缘检测、均匀性控制、自动温度控制和负载锁定。AE Minos DPS II还具有先进的冷却和加热系统,可在加工过程中控制室内温度,从而确保均匀和一致的沉积。AE Minos DPS II的设计是为了最大限度地提高生产率和促进快速、精确的薄膜沉积。AE Minos DPS II具有灵活的体系结构、先进的工艺控制和高吞吐量,能够高效、高性能地处理各种半导体薄膜和基板。