二手 AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 3500 SC PECVD #9011154 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT 3500 SC PECVD是一种下一代生产反应堆，设计用来生产非常薄的介电等材料的薄膜。该反应堆利用一种称为等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）的工艺，在玻璃、塑料和金属等基板上制造出高质量、低成本的薄膜。反应堆设有低压等离子体室，分为真空和化学反应的四个不同的室。它还含有磷和氮的沉积源，使用户可以沉积氧化硅等薄膜。等离子体室配有氟龙射频源，使沉积温度较低，以保证优秀的薄膜性能和基板相容性。总腔室体积也减少了薄膜中的空隙，意味着即使薄膜沉积时，薄膜也能提供优异的电性能以获得最佳性能。反应堆设有一个创新的、集成的、完全受控的源气体输送设备，允许用户为各种应用定制薄膜前体。该系统还旨在最大限度地提高气体利用率和降低工艺成本。此外，反应堆包括一个自动清洗序列，以去除有机材料，提供清洁，干燥的过程室可重复过程运行与均匀膜。AKT 3500 SC PECVD能够生产最小厚度为0.2微米的薄膜。反应堆还配备了反应性气体注入单元，允许精确控制沉积参数，包括薄膜光学密度和组成。这台机器最大限度地提高了胶片质量,提高了胶片在基材上的均匀性.总体而言，AMAT 3500 SC PECVD是一种先进的生产反应堆，旨在创造具有改进的均匀性、厚度和电性能的高质量薄膜沉积。该反应堆利用先进技术减少排放和成本，从而提高生产能力。由于其自动化系统和精确的源控制，反应堆为薄膜沉积工艺提供了可靠、高效和经济高效的解决方桉。