二手 AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 4300 / 5500 #293661852 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 4300/5500反应堆是一种高温化学气相沉积（CVD）反应堆，适合商业规模生产半导体、光电等电子元件。这座反应堆设计用于将各种薄膜材料，如金刚石状碳、氮化硅、碳化硅等，沉积在包括硅、砷化氙和蓝宝石在内的基板上。AKT 4300/5500反应堆采用热壁设计，具有射频感应加热和数字温度控制，以创造所需的工艺温度。AMAT 4300/5500反应堆可达到高达1,250°C的温度，这对于某些类型的薄膜沉积过程是必需的。这种能力是由闭环气体控制系统和感应耦合射频等离子体实现的，该等离子体在整个反应室中提供稳定、均匀的温度。4300/5500反应堆的大型圆柱形反应室可以加工直径达350毫米的底物，从而能够制造大型部件。先进的转子/定子泵送系统可提供8,000升/分钟的最大泵送速度，并可与氢气或氙气分压技术结合使用，以创造某些类型的薄膜沉积所需的精确化学环境。APPLICED MATERIALS 4300/5500反应堆还具有可选的两门冷墙，以增加加工灵活性。此功能使客户能够在散热和非散热过程之间切换而不会失去真空,从而在样品加载和处理方面提供了极大的灵活性。此外，AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT 4300/5500反应堆提供全面的数字过程控制，便于规划和优化沉积配方。该反应堆配有Easy-LANG语言，用于设置、监测和验证所有过程步骤，以及重复复杂的沉积运行。AKT 4300/5500反应堆可用于多种研究和生产应用，包括半导体和有机层的沉积、电介质和金属的沉淀、纳米晶体和纳米线。这种反应堆提供卓越的性能和可靠性，具有高压射频源和先进的过程监测功能，使研究人员能够取得卓越的成果。AMAT 4300/5500反应堆是需要高温CVD工艺的商业应用的理想解决方桉。