二手 AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 4300 #9383296 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 4300是一种等离子体蚀刻沉积反应器，具有水平定向的单晶片工艺室。它能够在高通量下进行蚀刻、沉积和高密度等离子体（HDP）工艺，具有良好的重复性和过程控制。AKT 4300是一种生产就绪反应堆，具有执行广泛工艺应用的能力，如单、多步蚀刻沉积工艺。它使用多种工艺气体，包括氦气、氮气、氙气和氯气。先进的气体控制设备可确保整个过程室的等离子体化学控制精确且可重复。反应堆采用了最先进的等离子体生成、监测和控制技术。磁性等离子体限制系统具有良好的过程均匀性和控制性，而先进的晶圆运动控制单元则确保了晶圆的精确传输和处理。集成过程控制机会根据变化的情况自动调整参数。该反应堆采用先进的PECVD工艺，支持高端Si和SiGe掺杂，用于苛刻的等离子体蚀刻和高密度等离子体（HDP）应用。它还具有并行操作的能力，映射RIE与浅海沟隔离（STI）应用。反应堆配有原位电容耦合等离子体（CCP）源，提供优异的工艺性能。该反应堆可承受高温高压，设计用于大批量生产环境下的全天候运行。它可以容纳直径最大8英寸的晶片,并以200 W/cm的速度加工它们。它还结合了先进的真空和压力控制系统，以确保可重复、无故障的操作。AMAT 4300是一种高度通用的反应堆，满足先进设备制造的需要。利用各种化学方法进行蚀刻和沉积的能力提供了出色的工艺能力，使用户能够开发和改进各种设备结构和工艺。由于其先进的设计和先进的过程控制工具,4300可以为先进的设备制造提供更好的吞吐量、可重复性和过程控制。