二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ALD Chamber for Endura CL #293663271 待售

AMAT Endura CL ALD反应堆量身定制，为半导体工业的应用提供最高质量和最精确的原子层沉积（ALD）。该ALD腔室的设计尽可能高效和经济高效，并结合了许多先进的功能，使其成为创建可靠和一致层的理想选择。Endura CL反应堆具有增强的设计，为沉积提供了优越的环境。其镀金内部和低距离泵浦结构增加了沉积吞吐量，有助于减少不良反应副产物。这个腔室配有先进的基于Web的控制系统，可以方便地监测过程时间、压力和温度。此外，它的流拟合设计与氦气、氮气和纯氢系统完全兼容，确保它可以被各种工艺使用，而无需额外的基础设施。该腔室还设有一个大的面板视图窗口和许多端口，用于气体和冷却管理。Endura CL反应器针对均匀的前体沉积进行了优化，产生了均匀的界面，具有较高的可达到的器件性能系数。它还具有清洁/干燥的前体途径，以及快速变化的晶圆支撑和沉积阶段。这一腔室的设计始终如一地提供均匀的ALD薄膜，即使在最具挑战性的基板上也是如此。作为工业机械的一部分，恩杜拉CL反应堆设有用于基板转移的假地板室和隔离室。它们为腔室提供了一个干净、无干扰的环境，有助于防止基板的污染。此外，这台机器还配备了一个凹入式基板加热器，可以精确控制工艺温度，从而有助于保持ALD工艺的准确性。AMAT/APPLIED MATERIALS ALD Chamber for Endura CL是市场上最先进的ALD系统之一。因此,在创建用于半导体行业的不同层时,它提供了最高的质量和精度。由于其先进的设计和增强的特点，该ALD腔室被优化为均匀一致的ALD膜沉积。