二手 AMAT / APPLIED MATERIALS AMC 7811 #9315232 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS AMC 7811 Reactor是来自AMAT的单晶圆、高密度等离子体反应器，用于生产介电层、薄膜介电层、金属层等先进技术层。氧化氮化硅（SiON）沉积过程是该反应器的主要用途。该反应器由于工艺控制严密、气流灵敏度低、均匀性好，具有薄膜厚度、蚀刻速率、沉积速率、均匀性等参数，特别适合先进的半导体工业。AMAT AMC 7811是一个具有等离子体源和压力控制设备的反应室，以及一个对沉积过程进行精确控制的原位直流偏置。它具有25至350°C的温度范围和0.01至200 torr的压力范围。基材最大尺寸--或晶圆尺寸--为380mm。系统平均沉积速率为每分钟2.5至5纳米，蚀刻速率高达每分钟5纳米。应用材料AMC-7811使用射频等离子体，而不是传统的CVD方法，沉积氧化物层。使用这一单元可以沉积的材料种类包括硅氧烷基SiON、二氧化硅、氧化ha、钛和氧化铝。这台机器在整个晶片上具有很强的均匀性，非常适合薄膜电介质和金属层。除此之外，AMAT AMC-7811采用原地清洁功能，可以准确控制工艺参数。此过程由软件中的"原位清洁"功能启动,该功能在清洁环境中将晶片加热到预定义的温度。这样可确保晶片得到清洁,并为后续过程进行充分的预处理。AMC-7811有一个内置的计算机工具，它可以根据沉积材料的类型和基板自动调整工艺参数。这样可以快速、准确地设置流程,并确保用户获得最佳结果。流程数据由资产记录,用于性能分析和故障排除。APPLICED MATERIALS AMC 7811是生产介电层、薄膜介电、金属层等先进技术层的理想选择。它具有很好的工艺控制、均匀性和较低的气流灵敏度，特别适合半导体工业。使用射频等离子体和惰性气体清洗确保了沉积层的高质量和一致性。模型的自动化功能可确保高效的流程设置。所有这些功能使AMAT/APPLIED MATERIALS AMC-7811各种应用的绝佳选择。