二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 Radiance #9260521 待售

AMAT Centura 4.0 Radiance反应堆是为高级半导体应用而设计的等离子体反应堆。这种高度灵活、低压的单晶片反应器被设计用来处理多种材料，包括硅、​​的、的和几种化合物半导体材料。通用的Centura 4.0 Radiance反应器允许多种工艺序列，特别是对于先进的晶体管、IC和异构内存应用。它的等离子体是由射频（RF）源产生的，由​​氙气、氧气或氮气提供等离子体激发的电子。该反应器还允许在使用气相输送系统的蚀刻过程中引入掺杂剂。Centura 4.0 Radiance设计有大腔室和更宽的晶圆区域，允许低压蚀刻和沉积更大面积的材料，同时与标准速率蚀刻工艺相比也实现了更好的均匀性。这是由于它能够使用移动速度更快的离子，更高的离子与中性气体的比例，以及减少离子碰撞以实现更高效的低压蚀刻。Centura 4.0 Radiance还配备了APPLIED MATERIALS专利的等离子体辅助端点控制PEPC™系统）系统,该系统优化了端点检测以实现精确蚀刻,从而能够快速响应实时过程更改。其嵌入式专用端点技术允许连续蚀刻，最大限度地提高工艺产量，提高设备吞吐量显着快于传统等离子蚀刻彷真系统。Centura 4.0 Radiance反应堆是为经济高效地生产设备而设计的,它采用了诸如接触对准、晶片卡盘清洗、低压蚀刻、动态压力控制和晶片与基板对准等丰富的工艺选择。它提供了比标准蚀刻解决方桉更多的优点，包括增加晶圆均匀性、更高的蚀刻速率和减少蚀刻偏差。总体而言,Centura 4.0 Radiance是一款功能强大、用途广泛的半导体制造和高级设备处理工具。凭借强大的设计和全面的功能,它非常适合当今苛刻的设备开发挑战。