二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL #9200079 待售

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL是一种先进的半导体加工反应器，专门设计用于提供高性能的等离子体蚀刻应用。此高性能工具提供了出色的蚀刻均匀性、选择性和一致性。开发该工具是为了能够以成本效益高的方式制造具有小临界尺寸的复杂结构。AMAT Centura 5200 ACL采用单晶圆、多室等离子体蚀刻反应器设计。这座反应堆的设计融合了一个专利的，低电感场耦合等离子体（FCP）源，在整个过程腔室产生更均匀的等离子体。这为该工具提供了卓越的蚀刻均匀性和可重复性。另外，机器还利用均匀的双峰电子回旋共振（ECR）源进行更精确、一致、可重复的等离子体蚀刻过程。APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL还支持一步蚀刻，从而无需多次蚀刻工艺。这样可以实现更快、更可靠和更经济的生产。反应堆的中板还包括先进的温度控制系统，以确保超细温度控制。这允许高度精确的等离子体蚀刻过程。低电感FCP等离子体源还允许将该工具配置为运行HBr、Cl2和SF6进程,从而进一步支持同一工具上的各种进程。Centura 5200 ACL采用紧凑的设计,配有两个隔离阀、一个泵送系统和一个通用气体面板的方便分隔室。这使得该工具的安装和维护相对简单，非常适合快速、低维护的生产。反应堆还包括一个顶级诊断包，其中包含先进的硬件和软件，可以更好地控制和监测等离子体蚀刻。这确保了生产过程中可靠且可重复的过程。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACL是一款先进的性能蚀刻工具,其设计目的是为复杂的结构制造提供出色的蚀刻均匀性、选择性、一致性和经济的生产,并具有较小的临界尺寸。多室等离子体蚀刻反应器具有许多特点，如低电感FCP源、双峰ECR源、温度控制系统以及用于更大程度控制和监测的诊断包，使其成为高通量、经济高效地制造一系列电路设计的理想选择。