二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 #171348 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1反应器是为半导体生产而设计的高通量化学气相沉积（CVD）设备。它提供了广泛的功能,使其成为各种应用程序的理想选择。该系统加强了过程控制，确保了一致的高质量存款，这些存款没有多余的材料，从而提高了产量，缩短了上市时间。AMAT Centura 5200 DPS R1提供了具有高度灵活性的多区反应堆设计和自动化控制系统。这样可以在过程运行过程中精确控制气流和热能沉积。此外，该装置采用多喷嘴设计，具有独立的气体控制功能，能够以最小的限制对小面积或大面积进行处理。该机还提供了一个高温炉，可以达到高达1400°C的温度。这使得任何材料都具有极好的热均匀性和高效率的加工。该工具还允许使用先进的嵌入式软件对沉积过程进行现场监测和控制。这为高性能CVD过程提供了更高水平的控制和准确性。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1还具有用于跟踪、归档和分析结果的高级数据管理资产。该模型还采用了10室装货锁设计，从而缩短了设备周期，降低了拥有成本。最后，该系统配备了一个创新的流量控制单元，可以灵活地微调气流，而无需复杂的关闭阀。总之,Centura 5200 DPS R1提供了其他CVD系统无法比拟的功能和灵活性的组合。其先进的技术使其成为跨一系列应用程序的高效、高质量CVD过程的理想解决方桉。其精确控制气流、热能和工艺数据的能力提供了无与伦比的性能和准确性。