二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS #9211801 待售
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已售出
ID: 9211801
晶圆大小: 6"
优质的: 1998
Metal etcher, 6"
P/N: 0010-70789
Chamber
Centura mainframe
(3) Process chambers
Chamber A: DPS Metal
Chamber B: DPS Silicon
Chamber C: MxP+ Oxide, MxP+ RF match
Chamber E / F: Remote orienter
Centura Gas panel
Narrow body tilt-out loadlocks
End point detection
HP Robot
Centura DPS Cathode
(2) SEIKO SEIKI STP-301CB1 Turbo molecular pumps
Power distribution cabinet
Remote power supply cabinet:
(2) SEIKO SEIKI STP-A1303C Controllers
APC Backup battery
SEIKO SEIKI STP-H1000C Control unit
RFPP LF-5 RF Power supply
RFPP RF20R Generator
ADVANCED ENERGY HFV 8000 RF Generator
(2) ENI OEM-12B3 RF Generators
(2) NESLAB HX-150 Chillers
(2) EDWARDS iH80 Pumps
(2) EDWARDS QDP80 Dry pumps
(2) APPLIED MATERIALS Heat exchanger carts
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 3 Phase, 320 A
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS是一种大型的200 mm沉积设备,设计用于在大面积上沉积高度保形的材料层。该反应堆具有高精度、多区基板温度控制、热控沉积室以及可调节以满足每个晶圆基板形状的三式气体输送系统。该单元被设计为兼容包括化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）和原子层蚀刻（ALE）在内的多个制造工艺。AMAT Centura 5200 DPS是一款先进的机器，用于沉积具有高均匀性、可重复性和基板覆盖率的薄膜。它能够以高达每小时1000纳米的速度沉积高达200-500纳米厚的薄膜。底盘由铝、硅和不锈钢组成，在不牺牲热性能的前提下实现最大耐用性。它还具有一个大型的钟形罐，可以容纳多种工具，能够在一个工具中保持多个半径和管长。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS是为便于使用、维护和清洁而构建的。它具有板载非接触晶片映射资产，可实现可重复、安全且无污染的晶片移动。它还具有自动压力控制和质量流量控制器，以确保准确性和可重复性。该模型具有全自动流程和手动命令,因此用户可以根据需要快速调整流程。Centura 5200 DPS还配备了自动泄漏测试设备,可以检测任何气体泄漏或断裂。通过自动检查系统的完整性，用户可以快速做出调整，避免昂贵的维修或延误。该机组还拥有先进的热管理机，可以更高效地调节压力和温度。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS是一种用于高质量薄膜沉积的可靠沉积工具。它非常适合生产高精度的先进材料和纳米结构，如MEMS和NEMS，具有高精度和重复性。该资产为芯片制造商、研究和实验室应用结合了性能和先进的多区域温度控制技术。
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